機加工金屬表麵改性技術的電鍍噴塗沉積簡介

一

電（diàn）鍍的定義和原理

電鍍是一種利（lì）用電化（huà）學性質在被（bèi）鍍零件表麵沉積所需金屬鍍層的（de）表（biǎo）麵處理技術。

電鍍（dù）原理:在（zài）含有被鍍金屬的鹽溶液中，被鍍基底金屬作為陰極，鍍液中被鍍金屬的（de）陽離子通過電解沉積在基底金屬表麵，從而形成鍍（dù）層。如圖13所示。

電鍍的（de）目（mù）的是獲（huò）得不同於基（jī）材的具有特殊性能的表層，以提高（gāo）表麵的耐蝕性和耐（nài）磨性。

塗層的厚度通常為（wéi）幾微米到幾十微（wēi）米。

電鍍的特點:電鍍工藝設備簡單（dān），操作條件容易（yì）控製，鍍層材料廣泛，成本低（dī）廉（lián），因此在工業上應用廣（guǎng）泛，是材料表麵處理的重（chóng）要方法。

塗料（liào）的分類

塗料有很多種（zhǒng），根據其性能可分為以下幾類:

(1)防護塗層:如鋅（xīn）、鋅鎳（niè）、鎳、鎘、錫等塗層，用作（zuò）抗大氣和各種腐蝕（shí）環境的防腐塗層。

(2)保護性-裝飾性塗層:如Cu-Ni-Cr塗層，兼（jiān）具（jù）裝飾性和保護（hù）性。

(3)裝飾（shì）性鍍層:如金和銅鋅仿金鍍層（céng）、黑鉻鍍層、黑鎳鍍層等。

(4)耐磨減磨（mó）塗層:如硬鉻塗層、多孔塗層、Ni-Sic塗（tú）層、Ni-石墨塗層、Ni-PTFE複合塗（tú）層等。

(5)電塗層:如金塗層、銀塗層等。，不僅導電率高，還（hái）能防止氧（yǎng）化，避免接觸電阻增加。

(6)磁性塗層:如軟磁塗層（céng）包括Ni-Fe塗層和Fe-Co塗層；磁性包括鈷-磷鍍層、鈷-鎳鍍層、鈷-鎳-磷鍍層等。

(7)可焊性塗層:如Sn-Pb塗層、Cu塗（tú）層、Sn塗層、Ag塗層等。提高可焊性，廣泛應用於電子行業。

(8)耐熱塗層:如鎳鎢塗層、鎳塗層、鉻塗層（céng）等。，熔點高，耐（nài）高溫。

(9)塗層修複:對一些成本較高的易磨（mó）損零件或（huò）超差零件進行電鍍修複，可節（jiē）約成本，延長使用壽命（mìng）。例如Ni、Cr、Fe層可以被電鍍用於修複。

根據塗層與基體金屬之間的（de）電化學性質，可（kě）分為陽極塗層和陰極塗層。當塗層相對（duì）於母（mǔ）材的（de）電位為負時（shí），塗層為陽極，稱（chēng）為（wéi）陽極塗層，如鋼鐵上的鍍鋅層；當鍍層（céng）相對於母材（cái）的電位為正時，鍍層為陰極，稱為陰極鍍層，如鋼鐵上的鎳鍍層和錫鍍層。

根據塗層的組合，塗層可分為:單層塗層，如（rú）Zn或Cu層；多層金屬塗層，例如銅-錫/鉻塗層、銅/鎳/鉻塗層等。複合塗層，如Ni-Al₂O₃塗層、Co-SiC塗層等。

根據鍍（dù）層的成分，可分為單一金屬鍍層、合金鍍層和複合鍍層。

3

電鍍液的基本組成

主要沉積（jī）金屬的鹽類主要有（yǒu）:單一鹽類，如硫酸銅、硫酸鎳等（děng）。複鹽，如鋅酸鈉、氰鋅酸鈉等。

絡合劑與沉（chén）積的金屬離子形（xíng）成絡合物，主要作用是改變鍍液的電化學性質，控製金屬離子沉積的電極過程。絡合劑是鍍液的（de）重要組成部分，對鍍層質量有（yǒu）很大影響。常（cháng）用的絡合劑（jì）包括氰化物、氫氧化物、焦磷酸鹽、酒石酸鹽、次氮基三乙酸、檸檬酸等。

導電鹽（yán）的作用是提（tí）高鍍液的導（dǎo）電性，降低槽端電壓，增加工藝電流（liú）密度。例如（rú），將Na₂SO₄添加到鍍鎳溶液中（zhōng）。導電鹽不參與（yǔ）電極反應，酸或堿也可作為導電物質。

在弱（ruò）酸性或堿性緩衝液中，pH值是一個重要的工藝參（cān）數。加入緩衝劑，使鍍液具有自行調節pH值的能力，從（cóng）而在鍍（dù）液（yè）過程中保持（chí）pH值穩定。為了有（yǒu）效地（dì）控製酸堿平衡，緩衝液必須（xū）有足夠的量，一般為30~40g/L，如氯化鉀鍍鋅溶液中的硼酸。

在電鍍過（guò）程中，陽極的金屬離（lí）子不斷消（xiāo）耗，大部分（fèn）鍍液由可溶性陽極補（bǔ）充，使金屬的陰極析出量與陽（yáng）極溶解量相等，維持鍍液的成分平衡。活性（xìng）劑的加（jiā）入可以維持陽（yáng）極活性狀態，不鈍化，保持（chí）正（zhèng）常（cháng）溶解反應（yīng）。例（lì）如，必須（xū）在鍍鎳液中加入Cl-以防止鎳陽極鈍化。

特殊添加劑為了改善（shàn）鍍液（yè）的性（xìng）能和鍍層的質量，往往需要加入一些特殊的添加（jiā）劑。其（qí）用量較小，通常每升隻有幾克，但效果（guǒ）顯著。這種添加（jiā）劑有很多種，可分為:

(1)光亮（liàng）劑——可以（yǐ）提高塗層的亮度。

(2)晶粒細化劑（jì）——能（néng）改變塗層的結晶狀態，細化晶粒（lì），使塗層致密。例如（rú），當添加劑如環氧氯丙（bǐng）烷和胺的縮合物加入鋅酸鹽鍍鋅溶液（yè）中時，鍍層可以從海綿狀（zhuàng）變為致密和光亮。

(3)流平劑——能提高鍍液的（de）微觀分散能力（lì），使基底的微觀（guān）粗糙表麵變得光滑。

(4)潤濕劑——可以降低金屬與溶液的界麵（miàn）張力，使（shǐ）塗層更好地附著在基體上，減少針孔（kǒng）。

(5)應力消除劑——它可以降低塗層的應力（lì）。

(6)塗（tú）層硬化劑——它（tā）可以提高塗層（céng）的硬度。

(7)掩蔽（bì）劑-能消除微量（liàng）雜（zá）質的影響。

4

電鍍工藝的基本步（bù）驟

電鍍過程的基本步驟包括液相傳質、電化學還原和電結晶（jīng）。

5

影響電鍍質量的因（yīn）素

(1)鍍液:主鹽、配位離（lí）子和附加鹽的溶解度；PH值；析氫；電流參數:電流密度和電流波形；添加劑；溫度；攪拌；金（jīn）屬:性質（zhì）、表麵處理（lǐ）狀態；預處（chù）理。

(2)電鍍方法:掛鍍。金屬如鎢、鉬、鈦、釩等。不（bú）能單獨從水溶液中（zhōng）電鍍的，可以與鐵族元（yuán）素(Fe、co、Ni)共沉積形成合金；從而獲得單一金屬不能（néng）獲得的外觀。

(3)合金沉積的（de）條件:

①兩種金屬中至少有一種可（kě）以（yǐ）從其（qí）鹽的水溶液中沉澱出（chū）來。

②兩種共沉積金屬的沉積電位（wèi）必（bì）須非常接近。

02

化學鍍

化學鍍是（shì）指一（yī）種表麵（miàn）處理方法（fǎ），利用化學方法將溶液中的金屬離子還（hái）原成金屬並沉積在基體表麵形成塗層。

在化學鍍中，通過化學反應在溶液中直接（jiē）產生還原金屬離子所需（xū）的電子。有三種方法可以完成這個過程。

數字一（yī）（one）

置換沉積

被鍍金屬M(如Fe)的電位比沉（chén）積（jī）金（jīn）屬M(如（rú）Cu)的電位更負，沉積的金屬離子從溶液中置換到工件表（biǎo）麵。這種（zhǒng）方法在工程上稱為浸鍍。當金屬M完全（quán）被金屬M覆蓋時，沉積停止，因此塗層非常薄（báo）。將銅浸在鐵中（zhōng），將汞浸在銅中，將鋅浸在鋁中（zhōng），都是（shì）這種置換沉積。浸鍍法很難獲得實用的鍍層，浸鍍法常作為其他鍍種（zhǒng）的輔助工藝。

接觸沉積

除了鍍的金屬M和沉積的金屬M，還有第三種金（jīn）屬M，在含有（yǒu）M離（lí）子的溶液中，兩種（zhǒng）金屬M-M相連，電子從高電位的M流向低電位的M，使M還原沉積（jī）在M上，當接觸金屬M完全被M覆蓋時，沉積停止。當在沒有自動催化的情況下在功能材料上進行化學（xué）鍍（dù）鎳時，接觸沉積通常用於引發鎳（niè）沉積。

3

還原沉積

還原劑氧化（huà）釋放的自由電子將金屬離（lí）子還（hái）原成金屬原（yuán）子的過程稱為還（hái）原沉積。

反應方程式（shì）如下:

還（hái）原劑氧化

Rn+ → 2e- + R(n + 2)+

金（jīn）屬離（lí）子還（hái）原

M2+ + 2e- → M

工程上的化學鍍也主要是指這種還原沉積化學鍍。

化學鍍的條件如下:

(1)電鍍（dù）液中還原劑的還（hái）原電位明顯低於沉積金屬的還原電位，這使得金（jīn）屬可以被還原並沉積在基材上。

(2)配製的鍍液不產生自發分解，隻有與（yǔ）催（cuī）化表麵接觸時，才發生金屬沉積過程。

(3)當調節溶液的pH值和溫度時，可（kě）以控製金屬的還原速率，從而調（diào）節鍍覆速率。

(4)還原（yuán）析出的金屬也具有（yǒu）催化活性，使氧化（huà）還原沉積過程得以繼續，塗層得以不（bú）斷增厚。

(5)反應產（chǎn）物不妨礙正常的（de）電鍍過程，即溶液有足夠的（de）使用壽命。

化學鍍的金屬和合金種類很多（duō），如Ni-P、Ni-B、Cu、Ag、Pd、Sn、In、Pt、Cr和許多其他鈷基合金等。，但化學鍍鎳和化（huà）學鍍銅是最廣泛使（shǐ）用的（de）。化學鍍層一般具有良好的耐腐蝕性、耐磨（mó）性（xìng）、可焊性等特殊的（de）電學（xué）或磁學性能（néng），因此這種表麵處理工藝可以提高材料的表麵性能。

03

熱噴塗技術，熱噴塗焊接技術

熱噴塗技術和熱噴焊技術是利用熱（rè）能(如氧-乙炔火焰、電弧、等離子火焰（yàn）等)的技術。)將具有特殊性能的塗層材料（liào）熔化後塗覆在工件上形成塗層。可用於製備厚塗層(0.1~10mm)，主要用於複合材料零件的修補。

一

熱噴（pēn）塗技術（shù）

(1)熱噴（pēn）塗技術的原理和特點

塗層材料被各種熱源加熱熔化或半熔化，然後被高速氣體分散細化，高速撞（zhuàng）擊在基（jī）體表麵形成塗層，如圖14所示。

熱噴塗工藝主（zhǔ）要包括:噴塗材料的熔化；噴塗材料的霧化；噴塗材料的飛行；粒子的碰撞和凝（níng）固。

(2)塗層材料

熱噴塗對塗層材料有一定要（yào）求，需要滿足以下（xià）條件:有（yǒu）較寬的液相區，在噴塗溫（wēn）度下不易分解或揮發；良（liáng）好的熱穩定（dìng）性；使用性能好；良好（hǎo）的潤濕性；固體流動（dòng）性好(粉末)；熱膨脹係數合適。塗料根據噴塗（tú）材（cái）料（liào）的形狀（zhuàng）可分（fèn）為絲狀和粉狀（zhuàng）。

(3)熱噴塗塗層的結合機理（lǐ）

①機（jī）械結合:熔融顆粒撞（zhuàng）擊（jī）基底表麵後，鋪展成一層扁平的薄液層，嵌（qiàn）在不（bú）平整的表麵上，形成機械結合。

(2)冶金結合（hé）:塗層（céng）與基體表麵（miàn）之間的擴散和焊接稱（chēng）為冶金結合。

③物理結合:當高速運動的熔融顆粒撞擊基底表麵時，如果界麵兩（liǎng）側（cè）的距離在原子晶格常數範圍內，顆粒就會被範德華（huá）力結合在一起。

(4)塗層的形成過程

(1)將噴塗材料加熱至熔融狀態；

②噴塗材料被霧化成微小的液（yè）滴，高速撞（zhuàng）擊基體表麵。顆粒（lì）撞擊基底的動能和衝擊變（biàn）形越大，形成的塗層結合越好。

③熔融的高速粒子撞擊基材表麵後變形，凝結後形成塗層。

塗層結構由不（bú）同尺寸的扁平顆粒、未熔化的球形顆粒、夾雜（zá）物和孔隙組成。氣孔存在的原（yuán）因（yīn）:未熔化顆（kē）粒的衝擊（jī）動能低；噴（pēn）塗角度不同造成的遮光效果；凝固效應和（hé）應力釋放。合（hé）適的孔隙可以儲存（cún）潤（rùn）滑（huá）劑，提高塗層的（de）隔熱性能（néng），降（jiàng）低（dī）內應力，提高塗層的抗熱震性等。但過多（duō）的氣（qì）孔會破（pò）壞塗層的耐腐蝕性（xìng），增加（jiā）塗層（céng）表麵的（de）粗糙度，從而降低塗層的結合強度、硬度和耐磨性。因此，在（zài）塗層的製備過程中，應嚴格控製孔隙的數量。

熱噴焊技術

(1)熱噴（pēn）焊技術的原（yuán）理和特點

熱噴焊技術是（shì）一種表麵冶金強化方法，利用熱源（yuán）使基體表（biǎo）麵的塗（tú）層材料重新熔化或部分熔化，然後凝結在基體表麵，形成與基體冶金結合的表層，也稱熔焊。與其他（tā）表麵處理（lǐ）工藝相比，熱噴焊獲得的顯微組織致密，冶金缺陷少，與基體（tǐ）結合強（qiáng）度高。但所用材料的選擇範圍較窄，基體（tǐ）的變形遠大於熱噴焊，熱噴焊層（céng）的成分與原成分不同。

(2)熱噴焊技術的分類（lèi）熱噴（pēn）焊技術主要包括火焰噴焊、等離子噴焊等。

①火焰噴焊:先在（zài）基（jī）體表麵噴塗粉末，再用火焰直（zhí）接加熱塗層，使（shǐ）塗層在基體表麵重熔，基體表（biǎo）麵完全潤濕，界麵發生元素互擴（kuò）散，形成牢固的冶金（jīn）結合。

火（huǒ）焰噴焊特點:設備簡單；流程簡單（dān）；塗層與基體的結合強度高；塗（tú）層具有良好的抗衝蝕磨損性能。

②等離（lí）子噴焊:利用等離子弧作為熱源加熱基體，使其表麵形成熔池。同時，噴焊（hàn）粉末材料被送入等離子弧，粉末在弧柱中被預熱（rè），處於熔融或半熔融狀態。被（bèi）火焰流（liú）噴（pēn）入熔（róng）池後，充分熔（róng）化（huà），排出氣體和熔渣。移開（kāi）噴槍後，合金熔池凝固，最終（zhōng）形成噴焊層。

等離子噴（pēn）焊（hàn）的特點:生（shēng）產效率高（gāo）；噴焊耐（nài）火材（cái）料，稀釋率低，工藝穩定性好（hǎo），易於自動化，噴焊層平整，成分和結構均勻，塗層厚（hòu）度較大，試驗過程控製準確。

(3)熱噴焊技術與熱噴塗技術的區（qū）別

①工件（jiàn）表麵溫度:噴塗時工件（jiàn）表（biǎo）麵溫度< 250℃；噴焊應> 900℃。

②結合狀態:噴塗塗層主要是機械結合；噴塗是冶金結合。

③粉末材料:噴焊用（yòng）自熔性合金粉末。噴（pēn）粉不限。

④塗層結構:噴塗層有孔隙，噴焊層均勻、致密、無空隙。

⑤承載能力:噴焊（hàn）層能承受衝（chōng）擊（jī）載荷和較高的接觸應力。

⑥稀釋率:噴焊層的稀釋率約為5%~10%，噴塗層的稀釋率幾乎為零（líng）。

04

化學轉化膜技術

化（huà）學轉化（huà）膜技術是通過化學或電化學手（shǒu）段在金屬表麵形成（chéng）穩定的化（huà）合物膜的過程。

化學轉化（huà）膜技（jì）術主要用於工（gōng）件（jiàn）的防腐和表麵裝飾，也可用於提高（gāo）工件的耐磨性。它利用某種金屬與某種（zhǒng）腐蝕性（xìng）液體接觸，在一定條件下，兩者發生化學（xué）反應（yīng）。由於濃差極化、正負極化，在金屬表麵形（xíng）成一層附著力好、不易溶（róng）解的腐（fǔ）蝕產物膜。這些膜可以保（bǎo）護基底金屬（shǔ）免受水和其他腐蝕性介質的（de）影響，還（hái）可以提高有機塗層的附著（zhe）力和抗老化性。在生產中，轉化膜技術主要包括磷化處理和氧化處理。

一

金（jīn）屬表麵磷（lín）酸鹽防鏽處（chù）理

磷化是將（jiāng）鋼鐵材料（liào）放入磷酸鹽溶液中，得到不溶於水的磷化膜的過程。

鋼材磷化處理的工藝（yì）流程為:化（huà）學除油→熱水（shuǐ）洗→冷水洗→磷化處（chù）理→冷水洗→去離子水洗→烘幹（gàn）。

磷化膜由磷酸鐵、磷酸錳（měng）、磷酸鋅等組成。，而且是灰色（sè）或灰黑色的（de）晶體。該膜與（yǔ）基底金屬（shǔ）結合牢固，具有（yǒu）高（gāo）電（diàn）阻率。與氧化膜相比，磷（lín）化膜具有更高（gāo）的耐蝕性，特別是（shì）在空氣、油性和苯介質中，但在（zài）酸、堿、氨、海水和水蒸氣中的耐蝕性較差。

磷化（huà）的主要方法有浸漬法、噴塗（tú）法和浸漬與噴塗相結合的（de）方（fāng）法（fǎ）。磷（lín）化按（àn）溶液溫度可分為常溫（wēn）磷化、中溫磷化（huà）和高溫磷化（huà）。

浸泡法適（shì）用於高溫、中溫、低溫磷化工藝。它可以處理任何（hé）形狀的工件，獲（huò）得不同厚度的磷化膜。設備簡單，質量穩定。厚磷化膜主要（yào）用於（yú）工件的防腐處理和增（zēng）強表麵的減摩（mó）性（xìng）。噴塗（tú）法適用於中（zhōng）溫、低溫磷（lín）化工藝，可處理大型工件，如汽車外殼、冰箱、洗（xǐ）衣機等大型工（gōng）件作為油漆底漆和冷變形處理。這種方法（fǎ）處理時（shí）間短，成膜速度（dù）快，但隻能得到較薄和中（zhōng）等厚（hòu）度的磷化膜。

氧化處理

(1)鋼的氧（yǎng）化處理

鋼鐵的氧（yǎng）化處理，又（yòu）稱發藍，是將鋼鐵工件放入某種氧化溶液（yè）中，在其表麵形成一層致密牢固（gù）的Fe3O4膜（mó），厚度約（yuē）為0.5~1.5μm的一種工藝方法。藍色通常不影響（xiǎng）零件的精度，常用於工具（jù）、儀器的（de）裝飾保護。能提高工件表麵的耐（nài）腐蝕性，有助於消除工（gōng）件的殘餘應力，減少變形，使表麵光亮美觀。堿性法是最廣泛使用的氧化方（fāng）法。

鋼鐵氧化處理所用溶液的成分和（hé）工藝條件可根據工件的（de）材料和性能要求確定。通常，溶（róng）液由500克/升氫（qīng）氧（yǎng）化鈉、200克/升亞硝酸鈉和餘量的水組成，當溶液溫度約為140℃時，處理6 ~ 9分鍾。

(2)鋁和鋁合金的氧化處理

①陽（yáng）極（jí）氧化法（fǎ）

陽極氧化是將工件置於電解液中，然後通電，獲得（dé）硬度高、吸附力（lì）強的氧化膜（mó）的方法。常用的電解（jiě）液有15% ~ 20%的硫酸、3% ~ 10%的（de）鉻酸和2% ~ 10%的草酸。陽極氧（yǎng）化膜可在熱水中煮沸，使氧化膜變成水合氧化鋁，因體積膨脹而（ér）閉合。也可以用重（chóng）鉻酸鉀溶液封閉，防止腐蝕性溶液通過（guò）氧（yǎng）化膜的晶隙（xì）腐蝕（shí）基板。

②化學氧化法

化（huà）學氧化是將（jiāng）工件放入弱堿或弱酸溶液中，獲得與（yǔ）基體鋁結合牢固的氧化膜的方法。主要用（yòng）於提高工件的耐（nài）腐蝕（shí）性和耐磨性，也用（yòng）於鋁（lǚ）及鋁合金的（de）表麵裝飾，如建築用（yòng）防鏽鋁、標誌用裝飾膜等。

05

氣相沉積（jī）技術

氣相沉積技（jì）術(Vapor deposition technology)是指（zhǐ）通過物理或化學方法將含（hán）有沉積元素的蒸氣物質沉積在材料表麵形（xíng）成薄（báo）膜的一種新型塗層技術。根據沉積過程的原（yuán）理，氣相沉積技術可分為物（wù）理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)。

一（yī）

物理氣相沉積（jī）

物理氣相沉積(Physical vapor deposition，PVD)是指在真空條件（jiàn）下，通過物理方法將材料汽化成原子、分子或電（diàn）離成（chéng）離子，通（tōng）過氣相過程在材料表麵沉積（jī）薄（báo）膜的（de）技術。物理沉積技術主要包括真空蒸發、濺射（shè）和離子鍍三種基（jī）本方法。

真空蒸發是將成膜物質蒸（zhēng）發或升華沉積在工件表麵形成薄膜的方法。根據蒸發材料的熔點，有多種加熱（rè）方式，如（rú）電阻加（jiā）熱、電子束加（jiā）熱、激光加熱等。真空蒸發的特（tè）點是設備、工藝和操作（zuò）簡單。但由於汽化顆粒動能較低，塗層（céng）與基體的結合力較弱，塗層疏鬆（sōng），因此抗衝擊性能和耐磨性不高。

濺射是在真空中用輝光放電電離氬（yà）氣，產生的氬離子在電場作用下加速轟擊陰極，濺射出（chū）來的顆粒沉積在工件表麵形成薄膜的一種方法。其優（yōu）點是氣化（huà）粒子動能大，適用材料(包（bāo）括基體材料和塗層材料)範圍廣，鍍覆能力（lì）好，但沉積速度慢，設備昂貴。

離（lí）子鍍是在真空中利用氣體（tǐ）放電技術將蒸發的原（yuán）子電離成離子，與大量高能中性粒子一起沉積在工件表（biǎo）麵（miàn）的方法。其（qí）特點是（shì）鍍層質量高、附著力強、鍍覆能力好、沉積速度快，但也存在設備複雜（zá）、價格昂貴（guì）等缺點。

物理（lǐ）氣相沉積適用的基（jī）體材料和薄膜（mó）材料範圍廣；工藝簡單，節省材料，無汙染；所（suǒ）得薄膜（mó）具有附（fù）著力強、膜厚均勻、致密（mì）、針孔少等優點。廣泛應用於機械、航天、電子、光學、輕工等領域，製備耐磨、耐腐（fǔ）蝕、耐熱、導電、絕緣、光學、磁性、壓（yā）電、潤滑、超導薄膜。

化學汽相澱積

化學氣相沉積（jī）(CVD)是指在一定溫度下（xià），通過（guò）混合氣體與基底的相互作用，在基底表麵形（xíng）成金屬或化合物薄（báo）膜的方法。

化學氣相（xiàng）沉積的特點是:沉積物種類繁多，可分為沉積金屬、半導體元素、碳化物、氮化物、硼化物等。並且可以在較大範圍內控製薄膜的組（zǔ）成和晶型（xíng）；能均勻塗（tú）覆複雜幾（jǐ）何形狀的零件；沉積（jī）速度快，膜層致密，與基底結合牢固；易於實現批量生產。

化學（xué）氣相沉積(CVD)薄膜因其優異的（de）耐磨性、耐腐蝕性、耐熱性、電學和光學性能，被廣泛應用（yòng）於機械製造、航空航天、交通運（yùn）輸、煤化工等工業領域。