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用於納米級表麵形貌(mào)測量的光(guāng)學顯微測頭

發布日期(qī):2022-10-10 09:49:44  點擊次數:1605

為了滿足(zú)納米級表麵形貌(mào)模板高精度非接觸測量的要求,研製了一種高分辨率光學顯微鏡探頭。以(yǐ)激光(guāng)全息單元為(wéi)光源和信號拾取器(qì)件,利(lì)用差分光斑尺寸變化檢測原理建立了微位移測量係統,並與(yǔ)光學顯微成像係統結合(hé)形成了高分辨率的光學微探針。將測頭應用於納米三維測量機,進行了台階高度模板(bǎn)和一維線間距模板(bǎn)的測量實驗。結果表明,光學顯微鏡探頭(tóu)結合納米三維測(cè)量機可(kě)以實(shí)現納米級(jí)表麵形貌模板的溯源測量,具有掃描(miáo)速度快、測量分辨率高、結構緊湊、非接觸測量等優(yōu)點,對解(jiě)決(jué)納米級表麵形貌測量問題具有重要的(de)實用價(jià)值。


0簡介(jiè)


隨著超精密加工技術的發展和各種微納結構的(de)廣泛應用,納米三坐標測量機等(děng)精(jīng)密測量儀器越來(lái)越受到重視。國內外一些(xiē)研究機構開發(fā)了納米測量(liàng)機,開展了微納結構測量[1-4]。納米測量(liàng)機作為一個高精(jīng)度的開放式測量平台,可(kě)以兼容不同原理(lǐ)的(de)接觸式探針和非接觸式探針[5-6]。作為納米測量(liàng)機的核心部件之一,測頭在微納(nà)結(jié)構幾何參數的高精度測量中(zhōng)發揮著重要作用。隨著原子力顯微鏡等(děng)高分辨率探針(zhēn)的出(chū)現,納米測量機可以實現複雜微納(nà)結構的高(gāo)精度測量[7-8]。但由於其測量速度慢,對測量環境要求高,不適合大規模快速測量。光學探(tàn)針從原理上可(kě)以提高掃描速度(dù),作為非接觸式探針,還可以避免損傷樣品表麵。因此,在微納表麵(miàn)形貌測量中有其獨特的(de)優勢。在光學探頭的(de)發展(zhǎn)中,激光(guāng)聚焦方法受到國內外研究者的青睞。德(dé)國Sioses公司生產的納米測量機包括基於光(guāng)學像(xiàng)散原理的激(jī)光聚焦光學探針。國(guó)內一些(xiē)高校和研究機構也開展了這方麵的(de)研究[9-11]。這些探(tàn)頭主要基於散光和差分光斑尺寸變化檢測的原理來(lái)執行散焦檢測[12-13]。CD和DVD播放機係統中常用的激光全息單元(yuán)已應用於微位移測量[14-15],在納米測量機光學測頭的研製中(zhōng)也有很好(hǎo)的實用價值。為了滿足納米尺度表麵形貌測量的要求(qiú),本(běn)文研製了一種基於激(jī)光全息單(dān)元的(de)高分辨(biàn)率光學(xué)顯微鏡測頭,應用於自主研發的納米(mǐ)三維(wéi)測量機,可以實現對被測樣品的快速瞄準和測量。


1激光全(quán)息單元的工作原理


全息單元是半導體激光器(LD)、全息光(guāng)學元(yuán)件(HOE)、光電探測器(PD)和信號處理電路的集成元(yuán)件。它最早應用於CD和DVD播放係統,用於讀取光盤信(xìn)息和實時檢測光(guāng)盤聚焦誤差。其工作原理如圖1所示(shì)。LD發射激光束,出(chū)射窗上有一個透明塑料(liào)部件。其內表麵為直線條(tiáo)紋光柵,外表(biǎo)麵為曲線條紋(wén)全息光(guāng)柵。兩組光柵相互交叉,外表麵光柵用於產生聚焦誤差信號。LD發出的激光束在光盤表麵反射回來後,全息光柵產生的一級衍射光分別返回到(dào)兩組(zǔ)光電探測(cè)器P1~P5和P2~P10。當光盤上下移動時,左(zuǒ)右光電探測器的(de)光斑麵積反向變(biàn)化(huà),根據這一現象產生聚焦誤差信號。這種測量方法稱為差分光斑尺寸變化檢測(cè),聚焦誤差信號可以表示為


根據聚焦(jiāo)誤差信號,可以判斷光盤的(de)散焦量。


根據上述原理,本文設計了一種具(jù)有高分辨率光學(xué)顯微鏡探頭的激(jī)光全息測量(liàng)係統(tǒng)。


光學顯微鏡探(tàn)頭的設(shè)計與實現(xiàn)


光學測頭由激光全息測量係(xì)統(tǒng)和光學顯微成像係統兩部(bù)分(fèn)組成。前者用於測量被(bèi)測樣(yàng)品(pǐn)的(de)微小位(wèi)移,後者(zhě)用於(yú)監測測量過程(chéng),從而實現(xiàn)對(duì)被測樣品表麵結構的非接觸瞄準和測量。


2.1激光全息測量係統的設計


光學(xué)探頭的光學係統如圖2所示,其中激光(guāng)全息測量係統(tǒng)由激光全息單元、透(tòu)鏡1、分光鏡1和顯微物鏡組成。測量時,激(jī)光全息單元中的半導體激光器發出(chū)的光(guāng)束(shù)通過透鏡1變成平行光束,經分光鏡1反(fǎn)射後,通過顯微物鏡會聚在被測件表麵。從被測件表麵反射的光束反向通過顯微鏡物鏡,一(yī)小(xiǎo)部分光通過分光鏡1進行觀察,大部分光被分(fèn)光鏡1反射,然後通過透鏡1會聚在激光全息單元上(shàng),被集成在全(quán)息單元中的光電探測器接收。這(zhè)樣,被測樣品表麵上瞄準點(diǎn)的位置信息被轉換成電信號。光學顯微鏡探頭設計選用的激光全息單元為(wéi)鬆下HUL7001,激光波長為790 nm。


當被測樣品表麵位於光學顯微鏡探頭(tóu)的焦平麵(miàn)上時,反(fǎn)射光沿原路返回激光全息單元。全息單元中兩組光電探(tàn)測器接收的光斑大小相等(děng),聚焦誤差信(xìn)號為零。當(dāng)樣品表麵偏(piān)離顯微鏡物鏡的聚焦平麵(miàn)時,從樣品表(biǎo)麵反射回來的光束的傳(chuán)播路(lù)徑會發生(shēng)變化,進入(rù)激光全息單元的反射光在兩組光電探測器上(shàng)的分布(bù)也會發生相(xiàng)應的變化(huà),導(dǎo)致激光全息(xī)單元的聚焦誤差信號發生變化。當被測樣品在(zài)顯微鏡物鏡的焦點內(nèi)時,聚焦誤(wù)差信號小於零,而當被測樣品在顯微鏡物鏡的焦點外時,聚焦誤差信號(hào)大(dà)於零。因此(cǐ),利用激光全息單(dān)元的輸出電壓與(yǔ)樣品在焦平麵附近的位移之間的單調對應關(guān)係,通過(guò)測量激光全息單元的輸出電壓,可以得到樣品的位移。


2.2顯微鏡物鏡參數的選擇


在激光全息測量係統中,顯微鏡物鏡是一個(gè)重要的光學元件,其光學參數直(zhí)接關係到光學顯微鏡(jìng)探頭的分(fèn)辨率。首先(xiān),顯微鏡物鏡的(de)焦距直接影響探針的縱向分辨率。在激光全息單元(yuán)、透鏡(jìng)1和顯微鏡(jìng)物(wù)鏡之間的位置關係不變(biàn)的情況下,對於相同的樣品位移,顯微(wēi)鏡物鏡的(de)焦距越小,顯微鏡物(wù)鏡和透鏡1成像的樣品上被測點的位移(yí)越大,激光全(quán)息單元中光電探測器的輸(shū)出信號變化越(yuè)大,即測量係統的縱(zòng)向分辨率越高。此外,顯微鏡物鏡的數值孔徑也影(yǐng)響探針的(de)分辨率。當光波長不變時,顯微鏡物鏡的數值孔徑越大,其景深越小,探針的縱向分辨率越高。同時,顯微鏡物鏡(jìng)的數值孔徑(jìng)越大,激光束的會聚光斑越小,係統的橫向分辨率越高。考慮到探頭分(fèn)辨率和工作距離等因素,光學顯微鏡探頭(tóu)的設(shè)計選用(yòng)了大恒光電GCO-2133長工作(zuò)距離物鏡。它的放大率為40,數值孔徑為0.6,工作距離為3.33毫米


2.3定(dìng)焦微探頭的實現


除激光全(quán)息測量係(xì)統外,光學顯微鏡探頭還包括光學顯微(wēi)鏡成像係統,由光源(yuán)、顯微鏡物鏡、透鏡2、透鏡3、分光鏡1、分光鏡2和CCD相(xiàng)機組成。光源(yuán)均勻照亮被測樣品表麵,被測樣品通(tōng)過顯(xiǎn)微物鏡、分光鏡1、透鏡2和分光鏡2成像在CCD相機的接收(shōu)麵上。為了避免光源發熱(rè)對測(cè)量係統的影響,采用光纖傳輸光束將照明光引入顯微成像係統。通(tōng)過(guò)CCD攝像機,我們不僅可以觀察被測樣品的表麵形貌,還可(kě)以觀(guān)察激光全息單元發出的光束在樣品表麵的聚焦情況。


根據圖2所示(shì)的原理,通過光學元件的選(xuǎn)擇、加工和信(xìn)號放大電路的設計來製造(zào)光學(xué)顯微鏡(jìng)探頭,如圖3所示。從結(jié)構上看,該探頭(tóu)具有體積(jī)小、集成度高的(de)優點。將探頭安裝在納米測量機上,編(biān)製相應的測量軟件,可用於被(bèi)測樣品的(de)快速瞄準和高(gāo)分辨率非接觸測量。


3測量實驗(yàn)及結果分析


為了測試光學顯微鏡探針的功能,將探針安裝(zhuāng)在納米3D測量(liàng)機上,並且顯微鏡物鏡的(de)光軸沿著測量(liàng)機的Z軸。標定了其輸(shū)出信(xìn)號的電壓與被測樣品離焦量(liàng)的(de)關係,並用其測量了台階高度模板和一維線間距模板[16]。在25 mm×25 mm×5 mm的(de)測量範(fàn)圍內,空間分辨率可達0.1 nm。實(shí)驗在溫(wēn)度控製在(20±0.5)℃


3.1輸出電壓和探頭位移之間關係的建立


為了獲得光學顯微鏡探頭輸出電壓與被測表麵位移(離(lí)焦)的關係(xì),將(jiāng)被測樣品板放置(zhì)在納米(mǐ)三維測量機的工作台上,精密位(wèi)移(yí)台驅動被測樣品(pǐn)板(bǎn)沿測量光軸移動。納米測量機采集(jí)位移數據(jù),同(tóng)時記錄(lù)探(tàn)頭(tóu)的輸出電壓信號。圖4示出了當待測樣品從遠離和靠近探針的焦點(diǎn)表麵向探針移動時,探(tàn)針的輸出電壓(yā)和(hé)樣品(pǐn)位移之間的關係。


從圖4可以看出,光學顯微鏡探頭(tóu)的輸出電壓與被測樣品的位移之間的關係為S形曲(qǔ)線,這與第一節所述的通過微分光斑尺寸變化測量離焦量的原(yuán)理是一致的。當被測(cè)樣品遠離光學顯微鏡探頭的焦平麵時,電壓信號(hào)近似恒定。當被測樣品靠近探頭焦麵時,電壓開始升高(gāo),達到最大(dà)值後(hòu)逐漸下降。當(dāng)模板通過探頭的聚(jù)焦麵時,電壓通過初始電壓值,可視為測量的零點;當樣品繼續遠(yuǎn)離焦平麵時,電壓繼續降低,當達到最小(xiǎo)值時,電壓逐漸升高,回到穩定(dìng)值。在電壓的峰值和穀值之間,曲線上有一個線性度較好的區域。在測量中(zhōng),該區(qū)域被選擇作為探針(zhēn)的工作區域。通過擬合(hé)該曲線,可以(yǐ)得(dé)到探針電壓和模板位移之間的關係。在圖4所示的3微米操作區域中(zhōng),電壓和位移之(zhī)間的關係是


其中:U為激光全息單元的輸出電壓;d是離焦平麵的距(jù)離。


3.2台(tái)階高度測量試驗


在校準光學(xué)微(wēi)探針的電壓-位移關係之後,通過配備有光學微探(tàn)針的納米3D測(cè)量機測量台階高度模板。


測量過程中,矽基SHS-1微米台階高度模板(bǎn)放置在納米三維測量機(jī)的工作台(tái)上。首先調整(zhěng)模板的位置,通(tōng)過CCD圖像(xiàng)觀察模板,使被測台階(jiē)的邊緣垂直於(yú)工作台的X軸移動方向,模板的表麵位於光學顯微鏡探頭的聚(jù)焦麵上。此時(shí),測量光束會聚在被(bèi)測模板的(de)表麵,如圖5所示。然後利(lì)用工作台帶動模板沿X方向移動,使測量光束掃過模板上的(de)台階,同時(shí)記錄光(guāng)學顯(xiǎn)微鏡探頭的輸出信號。最後,對測量數據進行處理,計算(suàn)出台階高度。


step模板的(de)測量結果(guǒ)如圖6所示。根據檢定規程[17]對測量結果進行處理後,發(fā)現被測模板的台階高度為1.005μ m,與該樣板1.012微米的標定結果相比,測量結果吻合(hé)較好,其微小偏差反映了測量過程(chéng)中溫度變化、幹涉儀非線性、樣板不平整等因素造成的測量誤差。


3.3一(yī)維線間距測量測試


在測量一維線間(jiān)距模板的過程中(zhōng),將矽基(jī)LPS-2微米一維線間距模板放置在納米測量機(jī)的工作台(tái)上,使測量線沿X軸方向,模板表麵位(wèi)於光學顯微(wēi)鏡探針的焦(jiāo)平麵上。然後(hòu)利用工作台帶動模板沿X方向移動(dòng),使測量光束掃過行距模板上的刻線,同時記錄納米測量機的(de)位移測量結(jié)果(guǒ)和光學(xué)顯(xiǎn)微鏡探針(zhēn)的輸出信號。最後,對測(cè)量數據進行(háng)處理,測量結果如圖7所示。


根據檢定規程[17]對一(yī)維線間距(jù)的測量結果進行處理,發現被測樣品(pǐn)的劃線間距為2.004微米,與該樣品2.002μ m的標定結果非常吻合


3.4分析和討論


從光學(xué)顯微鏡探針輸出(chū)電壓與被測表麵位移關係的標定實驗結果可以看出,利用探針輸出電壓與探針(zhēn)焦平麵附近樣品位移(yí)的單調對應關係(xì),通過測量探針輸出電壓的變化,可以得到樣品的位移。在圖4所示的曲線中,以電壓-位移曲線上探頭焦麵附(fù)近3微米的(de)位移範圍為工作區(qū)域,對應的電壓變(biàn)化範(fàn)圍約為0.628V,根據電壓測量分辨率和噪聲影響的分析,探頭(tóu)在有效範圍內的(de)分辨率(lǜ)可以達到納米級。


台階模板和(hé)一維線間距模板的(de)測量結(jié)果表明,該光學顯微鏡探針(zhēn)可應用於(yú)納米(mǐ)三維測量機,實現微納表(biǎo)麵形貌模板的快速定位和微(wēi)位移的測(cè)量。通過用納米測量機的激(jī)光幹涉儀標定光學顯微鏡探針的位移,探針的位移測量結果可以溯源到(dào)穩頻(pín)激光的波長。實驗過程(chéng)也(yě)證(zhèng)明了光學(xué)顯微鏡探頭具有掃描速度快、測量分辨率高、抗幹擾能力強的優點,適用於納米表麵形貌的非接觸測(cè)量(liàng)。


4結論


本文介紹了一(yī)種用(yòng)於(yú)納米級(jí)表麵(miàn)形貌測量的高分辨率(lǜ)光(guāng)學顯微(wēi)鏡探頭。在探頭設(shè)計中,采用激光全息單元(yuán)作為位移測量係統(tǒng)的(de)主要組成部分,根據差分光斑尺寸變(biàn)化原(yuán)理實現(xiàn)微位移測量。結合光(guāng)學顯微鏡係統,形成結構緊湊、集測量和觀察功能於一體的高分辨率(lǜ)光(guāng)學(xué)顯微(wēi)鏡探頭。將探頭安裝在納米三維測量機上,進行了台階高(gāo)度模(mó)板和一維線(xiàn)間距模板的測(cè)量實驗。結果表明,光學顯微鏡探頭(tóu)能夠(gòu)實現預期(qī)的測量功能,位(wèi)移測量(liàng)分辨率可以達到納米級(jí)。下一步,將通(tōng)過多種微納模板測量實驗,進一步考察和改進探頭的結構和性能,使其更適用於納米3D測量機,並應用於微納結構幾何參數的非接觸測(cè)量。


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